纯水制造方法及纯水制造装置

本发明提供一种在用二次纯水制造装置及三次纯水制造装置对一次纯水进行精制而制造纯水时,极力抑制过氧化氢的生成,制造将TOC、DO、过氧化氢浓度减少至极限的高纯度超纯水。超纯水制造系统在二次纯水制造装置及三次纯水制造装置上分别具有紫外线氧化部件及位于其后段的利用离子交换树脂的去离子部件。进行UV调光使得二次纯水制造装置的紫外线氧化装置出口的过氧化氢浓度为1~30μg/L、TOC浓度为1~10μg/L,且使三次纯水制造装置的紫外线氧化装置出口的TOC浓度为0.1~5μg/L。进行UV调光使得二次纯水制造装置的紫外线氧化装置出口的TOC浓度为1~10μg/L,且使三次纯水制造装置的紫外线氧化装置出口的过氧化氢浓度为1~20μg/L、TOC浓度为0.1~5μg/L。

专利类型: 发明专利
申请(专利)号: CN201510473701.1
申请日期: 2009年3月13日
公开(公告)日: 2016年1月6日
公开(公告)号: CN105217853A
主分类号: C02F9/08,C02F9/00,C,C02,C02F,C02F9
分类号: C02F9/08,C02F9/00,C,C02,C02F,C02F9
申请(专利权)人: 栗田工业株式会社
发明(设计)人: 小林秀树
主申请人地址: 日本东京都
专利代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人: 赵莹,刘力
国别省市代码: 日本;JP
主权项: 一种纯水制造方法,其包含以下工序:通过对导入到槽1中并从该槽1中送出的有机物浓度5~50μg/L的一次纯水照射紫外线将水中的有机物氧化分解的第1紫外线氧化工序,通过使第1紫外线氧化工序的处理水通过混床式非再生型离子交换装置或电子去离子装置接触离子交换树脂而进行去离子,制造二次纯水,将该二次纯水的一部分返回到该槽1中的第1去离子工序,通过对经过第1去离子工序的二次纯水的剩余部分照射紫外线将水中的有机物氧化分解的第2紫外线氧化工序,和通过使第2紫外线氧化工序的处理水接触离子交换树脂而进行去离子,制造三次纯水,将该三次纯水的一部分返回到所述二次纯水中的第2去离子工序;其特征在于:在第1紫外线氧化工序中,以该第1紫外线氧化工序的处理水的有机物浓度成为1~10μg/L、H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>浓度成为1~30μg/L的照射强度照射紫外线,同时在第2紫外线氧化工序中,以该第2紫外线氧化工序的处理水的有机物浓度成为0.1~5μg/L、H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>浓度成为1~20μg/L的照射强度照射紫外线。
法律状态: 公开,公开,实质审查的生效