一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法

本发明公开了一种除味釉料,按照质量份数,所述除味釉料的原料包括以下组分:负磁场粉3~15份、钾长石15~25份、钠长石12~18份、石灰石10~15份、氧化锌1~5份、高岭土8~12份、氧化铝8~15份、烧土5~8份、滑石10~15份和碳酸钡5~8份;所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁,且按照质量百分比,所述氧化铁的含量为33~37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。本技术方案提出的一种除味釉料,其烧成获得的釉层可辐射远红外线,且可生成折射率高的铁堇青石晶体结构,有利于提高远红外线的辐射率,能有效去除环境内的有害气体。进而提出的一种使用上述除味釉料的的釉面砖的制备方法,其步骤不包括除铁工序,有利于确保釉面砖的除味性能。

专利类型: 发明专利
申请(专利)号: CN202010422492.9
申请日期: 2020年5月19日
公开(公告)日: 2020年6月26日
公开(公告)号: CN111333430A
主分类号: C04B41/86,C,C04,C04B,C04B41
分类号: C04B41/86,C03C8/00,C,C04,C03,C04B,C03C,C04B41,C03C8,C04B41/86,C03C8/00
申请(专利权)人: 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
发明(设计)人: 王金凤,林锦威,徐瑜,钟保民
主申请人地址: 528031 广东省佛山市禅城区季华西路127号首层
专利代理机构: 佛山市禾才知识产权代理有限公司
代理人: 梁永健,单蕴倩
国别省市代码: 广东;44
主权项: 1.一种除味釉料,其特征在于:按照质量份数,所述除味釉料的原料包括以下组分:负磁场粉3~15份、钾长石15~25份、钠长石12~18份、石灰石10~15份、氧化锌1~5份、高岭土8~12份、氧化铝8~15份、烧土5~8份、滑石10~15份和碳酸钡5~8份; 所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁,且按照质量百分比,所述氧化铁的含量为33~37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。 2.根据权利要求1所述的一种除味釉料,其特征在于:所述负磁场粉的颗粒大小为1~100nm。 3.根据权利要求1所述的一种除味釉料,其特征在于:所述负磁场粉的内照射剂量≤1.1,所述负磁场粉的外照射剂量≤1.3。 4.根据权利要求1所述的一种除味釉料,其特征在于:按照质量份数,所述除味釉料的原料还包括8~15份的硅酸锆。 5.根据权利要求4所述的一种除味釉料,其特征在于:按照质量百分比,所述硅酸锆包括以下组分:0.2~0.3%的氧化铯、1~2%二氧化铪和0.35~0.42%氧化钇。 6.根据权利要求5所述的一种除味釉料,其特征在于:按照质量份数,所述除味釉料的原料包括以下组分:负磁场粉9份、钾长石20份、钠长石15份、石灰石12份、氧化锌3份、高岭土8份、氧化铝8份、烧土6份、滑石12份、碳酸钡6份和硅酸锆10份。 7.一种使用权利要求1~6任意一项所述除味釉料的釉面砖的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: A、将除味釉料原料按配比加入球磨机,将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨,获得除味釉料; B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上,形成除味釉层; C、将步骤B具有除味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制,形成釉面砖。 8.根据权利要求7所述的一种釉面砖的制备方法,其特征在于:所述除味釉层的厚度为0.05~3mm。 9.根据权利要求7所述的一种釉面砖的制备方法,其特征在于:所述除味釉料过325目筛,筛余0.8~1.2%。 10.根据权利要求8所述的一种釉面砖的制备方法,其特征在于:所述釉面砖的有害气体去除率≥75%。
法律状态: 公开