H2O对SnO2:F低辐射薄膜结构和性能的影响
EFFECT OF H2O ON STRUCTURE AND PROPERTIES OF SnO2:F FILM
摘要 以单丁三氯化锡(C4H9SnCl3)为前驱物,三氟乙酸(CF3COOH)为掺杂元素F的引入剂,H2O为催化剂,采用常压化学气相沉积法在浮法玻璃生产线上直接制备了F掺杂的SnO2膜(SnO2:F).采用X射线衍射、扫描电子显微镜、椭圆偏光仪、紫外-可见光谱研究H2O的用量对薄膜的结构和光电性能的影响.结果表明:水对薄膜结构和性能均有显著的影响,随着催化剂H2O含量的增加,SnO2:F为四方相金红石结构,薄膜结晶度提高,致密性得到改善,膜厚有所增加,方块电阻下降.在H2O含量为1.8mol/L时效果较好.
Author: ZHAO Hongli LIU Qiying CAI Yongxiu ZHANG Fucheng
作者单位: 亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室;燕山大学材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004 杭州蓝星新材料技术有限公司,杭州,310027 亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室
刊 名 硅酸盐学报 ISTICEIPKU
年,卷(期): 2007, 35(11)
分类号: TQ171.721
机标分类号: TQ3 TQ1
在线出版日期: 2007年12月24日
基金项目: 河北省自然科学基金