溅射制备非晶氮化镓薄膜的光学性能
Optical Properties of a-GaN Film Deposited by DC Magnetron Sputtering
摘要 利用直流磁控溅射方法制备了GaN薄膜.X射线衍射及Raman光谱结果表明薄膜样品为非晶结构;傅立叶红外光谱表明薄膜样品的主要吸收峰为Ga-N键的伸缩振动;光致发光测试得到了360nm处的紫外发光谱;测量薄膜样品的紫外-可见谱,并利用Tauc公式计算得到样品的光学带隙为3.74eV,这与光致发光谱得到的结果是一致的.
Author: PAN Xiao-Jun ZHANG Zhen-Xing JIA Lu LI Hui XIE Er-Qing
作者单位: 兰州大学,物理科学与技术学院,兰州,730000
刊 名 无机材料学报 ISTICEISCIPKU
年,卷(期): 2007, 22(4)
分类号: O472 O484
机标分类号: TG1 TB3
在线出版日期: 2007年9月10日
基金项目: 国家自然科学基金