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    GB/T 19199-2003 - 中外标准 - - 2003/6 - 作废
    本标准规定了非掺杂半绝缘砷化镓晶片中碳浓度的红外吸收测试方法。  本标准适用于电阻率大于1.0×10^7Ω·cm的非掺杂半绝缘砷化镓晶片中碳浓度的测定。可测定的最低碳浓度为4.0×10^1^4 cm^-^3 。
    半导体吸收半导体材料测量砷化镓红外线galluim arsenideinfrared wavesmeasurementsemiconductor materialsinfra-redmeasuringmeasurementssemiconductorsabsorption
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    GB/T 3045-2003 - 中外标准 - - 2003/10 - 作废
    本标准规定了碳化硅磨料及结晶块中二氧化硅、游离硅、游离碳、总碳、碳化硅、三氧化二铁、三氧化二铝、氧化钙、氧化镁的测定方法。  本标准适用于碳化硅磨料及碳化硅含量不小于95 %的结晶块的化学成分测定。
    硅无机化合物碳化物磨料化学分析和试验carbidecarbidessilicon inorganic compoundsabrasiveschemical analysis and testing
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