X射线分析引擎和分析仪的支撑结构及高度对准的单色X射线光学器件

本发明公开了一种形成单色X射线光学器件的方法,该方法包括对单层材料加热,并且使该单层材料进行弯曲同时被加热,以便该单层材料在冷却之后保持它的弯曲形状。本发明还公开了一种用于形成X射线分析仪的方法,其包括:提供X射线激励路径,用于将X射线从X射线源引导向样品;提供X射线探测路径,用于从样品处收集荧光;其中,所述X射线激励路径和/或X射线探测路径包括至少一个单色X射线光学器件;以及形成至少一个单色X射线光学器件,并且包括使该单层材料进行弯曲同时被加热,以使得该单层材料在冷却之后保持它的弯曲形状。

专利类型: 发明专利
申请(专利)号: CN201710929874.9
申请日期: 2012年10月25日
公开(公告)日: 2018年2月23日
公开(公告)号: CN107731337A
主分类号: G21K1/06,G21K1/00,G,G21,G21K,G21K1
分类号: G21K1/06,G21K1/00,G,G21,G21K,G21K1
申请(专利权)人: X射线光学系统公司
发明(设计)人: 陈泽武,R·D·德莱尼,J·H·伯德特,辛凯
主申请人地址: 美国纽约州
专利代理机构: 永新专利商标代理有限公司 72002
代理人: 张文达
国别省市代码: 美国;US
主权项: 一种形成单色X射线光学器件的方法,该方法包括对单层材料加热,并且使该单层材料进行弯曲同时被加热,以便该单层材料在冷却之后保持它的弯曲形状。
法律状态: 公开,公开,公开,实质审查的生效,实质审查的生效,实质审查的生效