放射线屏蔽滤波器以及包含上述放射线屏蔽滤波器的放射线影像拍摄装置用滤波器总成

本发明涉及一种放射线屏蔽滤波器以及放射线影像拍摄装置用滤波器总成。本文件公开一种包含于放射线影像拍摄装置的光线照射部中的放射线影像拍摄装置用滤波器总成。所公开的放射线影像拍摄装置用滤波器总成,包括:放射线屏蔽滤波器,包含二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、三氧化硼(B2O3)以及氧化钠(Na2O)的放射线屏蔽滤波器;以及,放射线校准滤波器,由与上述放射线屏蔽滤波器相同的成分构成,重叠在上述放射线屏蔽滤波器的前方,在表面形成有多个微细孔;借此,能够有效地对在放射线影像拍摄装置中生成的放射线进行屏7蔽但不会对放射线影像的品质造成过多的影像。

专利类型: 发明专利
申请(专利)号: CN201780093732.1
申请日期: 2017年10月19日
公开(公告)日: 2020年4月10日
公开(公告)号: CN110996802A
主分类号: A61B6/10,A,A61,A61B,A61B6
分类号: A61B6/10,A61B6/06,G21F1/04,A,G,A61,G21,A61B,G21F,A61B6,G21F1,A61B6/10,A61B6/06,G21F1/04
申请(专利权)人: 金基景
发明(设计)人: 金基景
主申请人地址: 韩国庆尚北道
专利代理机构: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人: 许伟群,郭放
国别省市代码: 韩国;KR
主权项: 1.一种放射线屏蔽滤波器,其特征在于: 包含于放射线影像拍摄装置的光线照射部, 包含二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、三氧化硼(B2O3)以及氧化钠(Na2O)。 2.根据权利要求1所述的放射线屏蔽滤波器,其特征在于: 由上述二氧化硅75至86重量%、上述氧化铝2至4重量%、上述三氧化硼9至16重量%以及上述氧化钠3至5重量%的范围构成。 3.根据权利要求1所述的放射线屏蔽滤波器,其特征在于: 还包括从由氧化钙(CaO)、氧化铬(Cr2O3)、氧化铁(Fe2O3)、氧化钾(K2O)、氧化镁(MgO)以及氧化锆(ZrO2)构成的组中选择的一种以上的添加物质。 4.一种放射线影像拍摄装置用滤波器总成,其特征在于,包括: 根据权利要求1至权利要求3中的某一项所述的放射线屏蔽滤波器;以及, 放射线校准滤波器,与上述放射线屏蔽滤波器相同的成分构成,重叠在上述放射线屏蔽滤波器的前方,在表面形成有多个微细孔。 5.根据权利要求4所述的放射线影像拍摄装置用滤波器总成,其特征在于: 在上述放射线校准滤波器上形成的微细孔的大小为40至50μm, 微细孔之间的间隔为120至170μm。 6.根据权利要求4所述的放射线影像拍摄装置用滤波器总成,其特征在于: 上述放射线屏蔽滤波器以及上述放射线校准滤波器的总厚度为10mm以下。 7.根据权利要求6所述的放射线影像拍摄装置用滤波器总成,其特征在于: 上述放射线屏蔽滤波器的厚度为4至6mm, 上述放射线校准滤波器的厚度为4至6mm。
法律状态: 公开,公开