纳米硅薄膜光学性质的测定与研究
Measurement and Study on Optical Properties of Nano-crystalline Silicon Films
摘要 通过测定纳米硅薄膜的透射谱,建立计算模型计算得出薄膜样品的折射率、厚度、吸收系数和光能隙.计算结果表明这种半导体材料在620 nm波长附近的折射率约为3.4,计算得到的厚度与用台阶仪测量的结果吻合很好.在620 nm波长附近的吸收系数介于吸收系数较小的晶体硅与吸收系数较大的非晶硅之间,光能隙约为1.6 eV,两者都随晶态含量增大而呈减小趋势.
Author: ZHONG Li-zhi ZHANG Wei-jia CUI Min WU Xiao-wen LI Guo-hua DING Kun
作者单位: 北京航空航天大学,理学院凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083 中国科学院半导体研究所,半导体超晶格国家重点实验室,北京,100083
刊 名 半导体光电 ISTICPKU
年,卷(期): 2005, 26(4)
分类号: TN304
机标分类号: TN3 O48
在线出版日期: 2005年10月13日