光学元件抛光的PSD分析及控制策略
PSD analysis and control strategy of optical component polishing
在光学加工领域,采用功率谱密度(power spectral density,PSD)对误差频谱方面信息进行表征,但是功率谱密度是表面误差统计信息,不如峰谷值(peak-valley,PV)和均方根值(root mean square,RMS)直观。为了分析功率谱密度与工艺参数之间的关系,该文从PSD 定义出发,分析了随机面形轮廓不同参数对光学PSD 的影响规律,总结了PSD 控制的要点,在平面玻璃上对数控抛光典型路径下加工的PSD 曲线进行分析。分析结果表明：PSD 与随机轮廓幅值、频率分布有关,相位对它几乎无影响；在RMS 接近情况下,PSD 线性拟合斜率和RMS Slope 随随机轮廓的自相关长度增加而下降；短程加工路径相较于长程有序路径能够有效抑制PSD 曲线峰值,使得光学元件符合频谱抑制要求。<br/>
作者单位：
西安应用光学研究所,陕西 西安 710065
母体文献
第四届军用光电技术发展论坛论文集
会议名称
第四届军用光电技术发展论坛
会议时间
2022年7月29日
)
会议地点
西安
主办单位
中国兵工学会 西安应用光学研究所
语 种
chi
分类号
TN206
在线出版日期：
2024年5月27日
