小型化原子层沉积系统
成果信息
项目年度编号: 2500030141
限制使用: 国内
省市: 江苏
中图分类号: TN405.2
成果类别: 应用技术
成果公布年份: 2024
关键词: 原子层沉积系统 半导体材料 集成电路
成果简介: 该成果针对微电子领域半导体技术快速发展,集成电路中的晶体管数目不断增加,使得沟道长度不断缩小的问题,原子层沉积技术成为制备高介电栅介质层的不二之选,已成为半导体研发生长中的一个重要技术。该成果为小型化原子层沉积设备,可用于新材料的研发,也适用于高校课程使用。 技术指标:1.反应腔内径5cm,长100cm;2.包含5路前驱体,其中2路为可加热源;3.生长温度为室温至500℃。 成熟程度:技术成熟度5级,可开展合作开发。 应用前景:成果可应用于微电子、光电子、光学、纳米技术、微机械系统、能源、催化、生物医用、显示器、耐腐蚀及密封涂层等领域。
申报信息
相关人信息
完成单位: 南京理工大学
行业及专利信息
应用行业名称: 工程和技术研究与试验发展
应用行业码: 752
转让信息
投资信息
推广信息
联系信息
联系单位名称: 南京理工大学
联系单位地址: 江苏省南京市孝陵卫200号
邮政编码: 210094