首页 > 资源导航 > 专利 > 物理 > 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
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专利
  • [发明专利]CN118707826B _ 珠海奔图电子有限公司 2022年11月23日
    本申请公开了一种导电部件、成像组件、处理盒、处理盒组和图像形成装置,该导电部件包括相互电连接的电接收部、电输出部、电传导部和导电传输部,导电传输部用于将电接收部接收的电力传输至电输出部和电传导部,在采用导电部件对处理盒进行导电时,电接收部与当前处理盒外部的电源电连接,以从当前处理盒的外部接收第一电源;电输出部与当前处理盒中的成像构件电连接,并向成像构件传输第二电源;电传导部向当前处理盒的外部输出第三电源,使得部分处理盒可以通过其他处理盒传递的电压来获取供电,因此,图像形成装置本体侧可以减少导电端子的设置,降低了处理盒与本体之间产生的弹性作用力,提升了处理盒安装的稳定性,降低了成本。
  • [发明专利]CN122776537A _ 合肥京东方视讯科技有限公司 京东方科技集团股份有限公司 2025年03月18日
    本发明涉及一种散热结构、投影仪和电子设备,所述散热结构包括固定支架,罩设于所述固定支架的外部的外壳,以及设置于所述固定支架上的电子器件;所述外壳的相邻或相对的两个侧面上分别设置镂空结构以形成进风口和出风口,所述固定支架上与所述进风口相对应的位置设置第一风扇,所述固定支架上与所述出风口相对应的位置设置第二风扇;在所述进风口和所述出风口之间设置第一风道和第二风道,所述第一风道由所述进风口处、穿过所述电子器件的顶部和所述外壳之间的空间、并延伸至所述出风口处,所述第二风道由所述进风口、穿过所述电子器件的底部和所述固定支架之间的空间、并延伸至所述出风口处。
  • [发明专利]CN122755328A _ 明贤电子材料科技(南通)有限公司 2026年07月06日
    本发明公开了一种用于激光直接制版的高灵敏度低线边粗糙度光刻胶及其制备方法,属于光刻材料技术领域。光刻胶包括协同改性有机‑无机杂化基体材料、9,9‑双4‑羟基苯基芴、光引发剂、光酸发生剂、溶剂以及分散剂、流平剂和抗氧剂。协同改性有机‑无机杂化基体材料由丙烯酸树脂、胆碱氯化物、尿素、甲基三乙氧基硅烷及对苯二酚通过深共熔结构构筑反应、自由基可逆捕获‑释放调控反应及有机硅梯度缩聚反应协同构建而成。本发明的光刻胶具有灵敏度高、线边粗糙度低及显影稳定性好的特点,适用于激光直接制版领域。
  • [发明专利]CN122776562A _ 合肥维信诺科技有限公司 2025年03月17日
    本申请提供一种阵列基板曝光机及其掩膜版转运方法,本申请提供的阵列基板曝光机通过在机壳内设置第一检测单元和第二检测单元,第一检测单元用于检测第一转运机构是否到达交换空间内的第一目标位置,第二检测单元用于检测第一转运机构上的掩膜版是否到达交换空间内的第二目标位置,第二转运机构用于在第一检测单元检测到第一转运机构到达交换空间内的第一目标位置,且第二检测单元检测到第一转运机构上的掩膜版到达交换空间内的第二目标位置时,将第一转运机构上的掩膜版从第一转运机构上转运至支架上,避免掩膜版偏移导致转运过程中发生碰撞,减少损失,提升生产效率。
  • [发明专利]CN122860858A _ 源卓微纳科技(苏州)股份有限公司 2026年03月30日
    一种镜头成像位置的检测方法,镜头投射检测图像至成像位置检测机构,检测图像的测试图案采用x向平行排列或者y向平行排列的方式,所述x向和y向为数字微镜器件阵列排列方向建立的坐标系,成像位置检测机构光栅的透光区与检测图像的测试图案图形尺寸以及周期相同,透光区沿x向或者y向平行排列;成像位置检测机构自检测图像的一侧向另一侧移动,获取检测图像的强度信息;垂直移动所述成像检测机构的高度至不同测试像面,获取成像位置检测机构处于不同测试像面采样位置接收的检测图像的强度信息;分别对不同平面获得的强度信息进行傅里叶变换;通过光栅频率对应的幅值以及对应的垂向位置进行拟合获得镜头成像的垂向位置。提高检测精度。
  • [发明专利]JP2026149139A _ キヤノン株式会社 2025年03月10日
    [Problem] To suppress image defects occurring at the leading edge of the recording material. [Solution] When the back contrast in the image formation sequence is the first back contrast, the back contrast in the latter half of the previous rotation sequence is the second back contrast, and the back contrast in the first half of the previous rotation sequence is the third back contrast, the engine control unit 205 controls the charging voltage and developing voltage so that the relationship first back contrast > second back contrast > third back contrast holds true. [Selected Figure] Figure 5
  • [发明专利]CN122826522A _ 科磊股份有限公司 2025年03月07日
    一种计量系统可接收叠对靶材的靶材布局的多个候选设计变化。计量系统可确定当使用已知制造工艺制造时所述多个候选设计变化的一或多个工艺诱发靶材缺陷。计量系统可确定当使用已知计量配方测量时与所述多个候选设计变化的所述一或多个工艺诱发靶材缺陷相关联的一或多个工艺诱发叠对误差。计量系统可从所述多个候选设计变化选择最终设计变化,其提供基于所述一或多个工艺诱发叠对误差的最小汇总叠对误差。
  • [发明专利]US2026299385A1 _ QISDA CORPORATION 2026年03月06日
    A multicolor light mixing module includes a light-mixing unit and a laser source including first lighting units, a second lighting unit and a third lighting unit arranged along an arrangement direction for emitting first, second and third color lights respectively in an emitting direction perpendicular to the arrangement direction. The light-mixing unit has a first dichroic surface reflecting the first color light and allowing the second and third color lights to pass through, a second dichroic surface allowing the third color light to pass through and reflecting the second color light to pass through the first dichroic surface, and a reflective surface sequentially arranged in parallel along a normal axis of the first dichroic surface. The reflective surface reflects the third color light to pass through the second and first dichroic surfaces, for mixing the first, second and third color lights along a light-mixing axis to form a multicolor beam.
  • [发明专利]KR20260144981A _ 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 2024年12月19日
    A method for processing a substrate comprising forming a photomask based on a layout of a first surface of a wafer, wherein the photomask comprises at least one opaque region and at least one transparent region and the first surface of the wafer is coated with a photosensitive resist; providing the photomask at a first photomask position between the first surface of the wafer and a radiation source of a predetermined wavelength, wherein at least one opaque region of the photomask covers a first region of the first surface of the wafer and at least one transparent region of the photomask exposes a second region of the first surface of the wafer; and exposing the first surface of the wafer to a first radiation pattern, wherein the first radiation pattern comprises the second region of the wafer exposed by at least one transparent region of the photomask
  • [发明专利]US20260202787A1 _ KYOCERA Document Solutions Inc. 2026年01月05日
    When a paper dust collecting member is moved in the removal direction, a scraping member scrapes off paper dust adhered to the paper dust collecting member. The paper dust collecting member has a contact member and a holding member. The contact member makes contact with a pair of rollers to collect paper dust. The holding member holds the contact member. The apparatus body has a bottom wall portion. The bottom wall portion is disposed below the paper dust collecting member and extends along the insertion-removal direction to receive the scraped-off paper dust. The paper dust scraped off onto the bottom wall portion is swept out in the insertion direction by the holding member when the paper dust collecting member is inserted.
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